Установка нанесения фоторезиста CPF-200
Формирование фоторезистивных и полимерных плёнок заданной толщины на поверхности подложек большой массы
Установка очистки подложек полуавтоматическая с модулем мегазвуковой очистки для объектов массой до 30 кг
Очистка поверхности одиночных подложек, имеющих форму прямоугольных пластин с плоскопараллельными поверхностями, круглых, в т.ч. линз, из различных материалов (кварц, стекло, полупроводники, керамика).
Установка нанесения фоторезиста автоматическая УНФ-150А
Формирование на круглой пластине из раствора полимера плёнки с заданными значениями толщины и разнотолщинности.
Установка нанесения фоторезиста полуавтоматическая УНФ-1000ПА для объектов массой до 4 кг
Формирование фоторезистивных и полимерных плёнок заданной толщины на поверхностях одиночных подложек, имеющих форму прямоугольных, квадратных пластин.