ОБЩИЙ ВИД

НАЗНАЧЕНИЕ

Установка низкотемпературного плазмохимического травления диэлектриков, полупроводников и металлов модели ПХТ-300 с ручной загрузкой подложек предназначена для реализации процессов сухого плазменного травления. В базовой конфигурации установка применяется для широкого спектра процессов, таких как селективное травление диэлектриков (SiO2, Si3N4), полупроводников (Si) и металлов (Мо, W и др.).

Цилиндрический реактор с клеткой Фарадея, перфорированным токопроводящим электродом, принимающим на себя высокоактивные электроны и пропускающий через себя электрически нейтральные радикалы, позволяет защитить обрабатываемую подложку от ионной бомбардировки, способной повредить чувствительную топологию, и сосредоточиться на тонкой химической очистке и активации поверхности.

СОСТАВ УСТАНОВКИ

  • блок обработки – разрядная камера из нержавеющей стали полезным объемом 15 л со стальным цилиндрическим изолированным и экранированным корпусом, выполненным в виде стакана с внутренним диаметром 300 мм и глубиной 310 мм, ось которого расположена горизонтально, соединённым с системой для подачи процессных газов и вакуумной системой; изолированным цилиндрическим перфорированным алюминиевым электродом, диаметром 245 мм, ось которого расположена также горизонтально, направляющими и держателями подложек, на которых может быть размещено до 4-х пластин диаметром 150мм для одновременной обработки; крышка камеры реактора закрывается вручную и снабжена оптическим окном диаметром 50 мм для наблюдения за процессом травления и блокировкой от включения ВЧ генератора при открывании; поверхности, контактирующие с обрабатываемыми подложками выполнены из сплава АМГ с покрытием Al2O3 толщиной не менее 50мкм
  • вакуумная система – состоит из механического насоса Oerlikon Leybold D16C с питанием от сети переменного тока 380V/50Гц, электромагнитного клапана SMC XLS-25-P5G с питанием от сети постоянного тока 24V, маслоотделителя 2МО-5 и ловушки масляного тумана
  • система подачи процессных газов – содержит 2 газовые линии с отсечными клапанами для не коррозионных газов: CHF3, O2, CF4, Ar. Клапаны управляются по командам от промышленного контроллера системы управления с возможностью установки задержки с шагом 1 с.
  • блок генераторный – генератор Seren R-601, мощностью 600 Вт на частоте 13,56МГц с питанием от сети переменного тока 220V/50Гц и устройства автоматического согласования с нагрузкой ATS-6
  • блок разгерметизации – включает в свой состав соленоидный клапан SMC XLS-25 с номинальным напряжением 24V
  • блок электроники – включает в себя системы измерения и контроля параметров

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ

Система управления – на базе микроконтроллера с выводом информации на ЖК дисплей. Она обеспечивает:

  • диагностику работоспособности установки
  • хранение в памяти не менее 20 программ различных циклов обработки объекта с не менее 20 шагами в каждой программе
  • мониторинг и регулирование технологического процесса в реальном масштабе времени

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ УСТАНОВКИ

Максимальный размер обрабатываемых пластин, мм 100
Диапазон регулирования давления в камере обработки, Па 5÷100000
Мощность ВЧ генератора, Вт, не менее 600
Частота ВЧ генератора, МГц 13,56
Количество газовых каналов 2
Габаритные размеры установки, мм (глубина x ширина x высота) 920×720×1900

ДЛЯ РАБОТЫ УСТАНОВКА ПОДКЛЮЧАЕТСЯ

  • к сети переменного тока напряжением 220\380 В, частотой 50 Гц (нормы качества электроэнергии по ГОСТ 13109-87)
  • контуру заземления
  • к линии технической воды давлением 0,2÷0,25 МПа и расходом не менее 500 л/час
  • к линии канализации Dу 40 мм

Установка размещается в зоне действия вытяжной вентиляции с производительностью не менее 100 м3/час.


Установка удовлетворяет требованиям для эксплуатации в «чистых помещениях» класса Р5 (100) по ГОСТ Р 50 766-95. Конструкция узлов и деталей удобна для промывки и очистки