ОБЩИЙ ВИД

Модернизированный вариант установки нанесения фоторезиста УНФ-150-Л

НАЗНАЧЕНИЕ

Формирование топологического рисунка (маски) в фоторезистивной пленке на гладких и рельефных поверхностях пластин круглой и прямоугольной формы.

Может использоваться в качестве установки отмывки пластин моющим раствором и сушки центрифугированием.

Установка легко размещается на лабораторном столе и для работы подключается к вытяжной вентиляции и электричеству. Пластины обрабатываются на центрифуге в изолированной камере оснащенной системой вентиляции. Корпус установки изготовлен из полированной нержавеющей стали, камера обработки выполнена из полипропилена или капролона.

Загрузка и выгрузка пластин на столик центрифуги производится вручную. Фиксация пластины на поверхности столика – вакуумная.

Установка комплектуется набором столиков-подложкодержателей. Состав набора – по согласованию с Заказчиком.

Подача проявителя и ополаскивающих растворов на обрабатываемую пластину производится с помощью пипетки.

Режимы работы задаются и программируются с помощью сенсорного текстового дисплея.

Дополнительная опция: система обогрева камеры.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:

Размеры обрабатываемых пластин:
круглые, диаметр, мм 10-150
прямоугольные, мм 10x10 – 110x110
Диапазон задания частоты вращения, об/мин 0,1-6000
Точность поддержания частоты вращения, % ±0,01
Ускорения, об/мин/с 20000
Дискретность задания времени обработки, с 1,0
Диапазон задания времени обработки, с 1,0-100
Электропитание сеть переменного тока:
напряжение, В 220
частота, Гц 50
Потребляемая мощность, не более, кВт 1,0
Габариты установки, мм (ШxГxВ) 380x450x380
Масса, кг 7

Установка удовлетворяет требованиям для эксплуатации в «чистых помещениях» класса Р5 (100) по ГОСТ Р 50 766-95.